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Optics & Lithography

光學與微影

把電路「印」到晶圓上的核心技術，以及 EUV 的門檻。

回優半導體首頁

全部微影 (4) ASML (2) EUV (2) 光罩 (2) ArF (1) High-NA (1) Pellicle (1) 半導體製程 (1) 反射光學 (1) 多重曝光 (1) 奈米壓印 (1) 曝光 (1) 波長 (1) 浸潤式 (1) 製程 (1) 解析度 (1) 護膜 (1)

High-NA EUV：下一世代微影

用太陽表面般的電漿產生極紫外光，刻出更小的電晶體。

研究所 · 約 19 分鐘 · EUV、High-NA、ASML